पॉलिश सिलिकॉन वेफर्स

पॉलिश सिलिकॉन वेफर्स

हमारे उच्च-शुद्धता वाले सिलिकॉन वेफर्सउन्नत पॉलिशिंग प्रक्रियाओं के माध्यम से प्राप्त दर्पण जैसी सतह फिनिश की सुविधा, आधुनिक उपकरण निर्माण के लिए एक समझौताहीन क्रिस्टलीय इंटरफ़ेस प्रदान करता है। मल्टी{{1}स्टेज केमिकल{{2}मैकेनिकल प्लैनराइजेशन (सीएमपी) को अल्ट्रा{3}फाइन अपघर्षक घोल के साथ एकीकृत करके, हम स्लाइसिंग प्रक्रिया में निहित उपसतह क्षति (एसएसडी) को खत्म करते हैं। यहउच्च सतह गुणवत्ता महीन {{0}लाइन लिथोग्राफी और उच्च {{1}सटीक अर्धचालक प्रसंस्करण का समर्थन करती है, यह सुनिश्चित करते हुए कि सिलिकॉन जाली अगली पीढ़ी के उप-{0}}माइक्रोन आर्किटेक्चर के लिए एक आदर्श टेम्पलेट बनी हुई है।

उन्नत लिथोग्राफ़िक रिज़ॉल्यूशन:उप-{0}एंगस्ट्रॉम सतह खुरदरापन की विशेषता के साथ, ये वेफर्स एक नियतात्मक इमेजिंग विमान प्रदान करते हैं जो डीयूवी और ईयूवी एक्सपोज़र सिस्टम के लिए फोकस (डीओएफ) की गहराई को अधिकतम करता है। यह चरम समतलता फोटोलिथोग्राफी के दौरान प्रकाश के प्रकीर्णन को कम करती है, जिससे उच्च {{4}आस्पेक्ट-अनुपात वाले गेट संरचनाओं के लगातार पुनरुत्पादन की अनुमति मिलती है औरबढ़िया -लाइन पैटर्नस्थानीय सीडी (महत्वपूर्ण आयाम) भिन्नता के बिना।

सुपीरियर गेट ऑक्साइड इंटीग्रिटी (भारत सरकार):प्राचीन, कण मुक्त सतह खत्म सिलिकॉन ढांकता हुआ इंटरफ़ेस पर स्थानीयकृत विद्युत क्षेत्र एकाग्रता को कम करता है। इससे पतली {{3}फिल्म गेट ऑक्साइड के ब्रेकडाउन वोल्टेज में उल्लेखनीय वृद्धि होती है, जिससे दीर्घकालिक परिचालन विश्वसनीयता और उच्च घनत्व में स्थिर थ्रेशोल्ड वोल्टेज सुनिश्चित होता है।एनालॉग और लॉजिक आईसी.

उच्च उपज वाली स्वचालित फाउंड्रीज़ के लिए अनुकूलित:सबसे कड़े एसईएमआई मानकों का पालन करते हुए, हमारे पॉलिश किए गए वेफर्स अल्ट्रा {{1} कम सुनिश्चित करने के लिए कठोर लेजर आधारित निरीक्षण से गुजरते हैंप्रकाश बिंदु दोष (एलपीडी)मायने रखता है. यह रासायनिक और भौतिक शुद्धता उच्च गति स्वचालित विनिर्माण लाइनों में घर्षण रहित एकीकरण सुनिश्चित करती है, जिससे जटिल बहु परत इंटरकनेक्ट निर्माण के दौरान दोष संबंधित उपज हानि को रोका जा सकता है।

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