परिष्कृत सिलिकॉन वेफर

परिष्कृत सिलिकॉन वेफर

यह परिष्कृत सिलिकॉन वेफर श्रृंखला प्रदान करने के लिए सावधानीपूर्वक इंजीनियर की गई हैबेहतर सामग्री स्थिरता, अगली पीढ़ी के माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक उपकरणों के लिए एक प्राचीन मेजबान के रूप में कार्य करना। से पूर्ण औद्योगिक स्पेक्ट्रम का समर्थन करना2 इंच (50 मिमी) से 12 इंच (300 मिमी), इन सबस्ट्रेट्स को जाली की शुद्धता और संरचनात्मक एकरूपता के एक असम्बद्ध स्तर को प्राप्त करने के लिए उन्नत जोन रिफाइनिंग और सीज़ोक्रालस्की (सीजेड) खींचने वाली तकनीकों का उपयोग करके तैयार किया गया है।

विद्युत स्थिरता के लिए अल्ट्रा-उच्च शुद्धता:बढ़ी हुई शुद्धतासब्सट्रेट की विशेषता {{0}धात्विक संदूषकों और अंतरालीय कार्बन की अल्ट्रा{{1}निम्न सांद्रता{{2}सीधे तौर पर होती है।स्थिर विद्युत विशेषताओं का समर्थन करता है. गहरे स्तर के ट्रैपिंग केंद्रों को कम करके, सामग्री पूर्वानुमानित वाहक जीवनकाल सुनिश्चित करती है और रिसाव धारा को कम करती है, जो उच्च संवेदनशीलता के प्रदर्शन के लिए महत्वपूर्ण है।एनालॉग आईसी और आरएफ-आईसीअवयव।

प्रक्रिया परिवर्तनशीलता में कमी:प्रत्येक वेफर रेडियल प्रतिरोधकता और ऑक्सीजन वितरण के लिए कठोर सहनशीलता द्वारा नियंत्रित होता है, जो महत्वपूर्ण हैप्रसंस्करण के दौरान परिवर्तनशीलता कम कर देता है. यह एकरूपता थर्मल ऑक्सीकरण और आयन आरोपण के लिए लगातार प्रतिक्रिया सुनिश्चित करती है, जिससे प्रक्रिया इंजीनियरों को उच्च -मात्रा वाले विनिर्माण वातावरण में लाखों इकाइयों में एक स्थिर थ्रेशोल्ड वोल्टेज (Vth) बनाए रखने की अनुमति मिलती है।

दीर्घावधि के लिए मजबूती-अवधि की विश्वसनीयता:परिष्कृत संरचनासिलिकॉन जाली को गहन निर्माण चक्रों के दौरान थर्मल प्रेरित दोषों के गठन का विरोध करने के लिए इंजीनियर किया गया है। इससे संरचनात्मक अखंडता में वृद्धि हुईदीर्घकालिक विश्वसनीयता में सुधार करता हैऔर इन वेफर्स को बनाते हुए समय से पहले डिवाइस की विफलता को रोकता हैसटीक इलेक्ट्रॉनिक अनुप्रयोगों के लिए उपयुक्तऑटोमोटिव, एयरोस्पेस और मेडिकल इंफ्रास्ट्रक्चर क्षेत्रों में।

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