सिलिकॉन बेस वेफर

सिलिकॉन बेस वेफर

इस सिलिकॉन बेस वेफर श्रृंखला को सावधानीपूर्वक इंजीनियर किया गया हैउपकरण निर्माण के लिए एक विश्वसनीय आधार के रूप में कार्य करें, एकीकृत परिपथों की अगली पीढ़ी के लिए एक प्राचीन और तनावग्रस्त -तटस्थ टेम्पलेट प्रदान करता है। से संपूर्ण औद्योगिक रेंज का समर्थन करना2 इंच (50 मिमी) से 12 इंच (300 मिमी), इन सबस्ट्रेट्स को जाली की शुद्धता और रासायनिक समरूपता का एक समझौता न किए जाने वाले स्तर को सुनिश्चित करने के लिए उन्नत Czochralski (CZ) क्रिस्टल ग्रोथ प्रोटोकॉल का उपयोग करके तैयार किया गया है।

एकाधिक प्रसंस्करण चरणों में लचीलापन:सब्सट्रेट को डिज़ाइन किया गया हैन्यूनतम भिन्नता के साथ एकाधिक प्रसंस्करण चरणों का समर्थन करें, गहन तापीय ऑक्सीकरण, आयन आरोपण, और रासायनिक -यांत्रिक समतलीकरण (सीएमपी) के माध्यम से इसकी ज्यामितीय और क्रिस्टलीय अखंडता को बनाए रखना। यह मजबूती एक स्थिर प्रक्रिया विंडो की सुविधा प्रदान करती है, जिससे संचयी तनाव कम हो जाता है जिससे कॉम्प्लेक्स में वेफर वॉरपेज हो सकता हैएनालॉग और पावर आईसीआर्किटेक्चर.

स्थिर सामग्री गुणों के माध्यम से पूर्वानुमान:रेडियल प्रतिरोधकता और अंतरालीय ऑक्सीजन (ओआई) एकाग्रता पर हमारा व्यवस्थित नियंत्रण यह सुनिश्चित करता हैस्थिर भौतिक गुण पूर्वानुमानित परिणाम देते हैं. यह स्थिरता फाउंड्रीज़ को थ्रेशोल्ड वोल्टेज और वाहक गतिशीलता जैसे विद्युत मापदंडों का सख्त वितरण प्राप्त करने की अनुमति देती है, जो सीधे अंतिम वेफर स्तर की उपज (डब्ल्यूएलवाई) को बढ़ाती है।

विनिर्माण अनुकूलनशीलता में वैश्विक भरोसा:बनने के लिए इंजीनियर किया गयाविभिन्न विनिर्माण प्रवाहों के अनुकूल, हमारे वेफर्स नॉच/फ्लैट ज्योमेट्री और एज प्रोफाइलिंग के लिए अंतरराष्ट्रीय SEMI मानकों का सख्ती से पालन करते हैं। यह सार्वभौमिक अनुकूलता सुनिश्चित करती है कि सामग्री हैदुनिया भर के औद्योगिक ग्राहकों द्वारा भरोसा किया गया, ऑटोमोटिव, औद्योगिक और उपभोक्ता इलेक्ट्रॉनिक्स के लिए स्वचालित उच्च मात्रा विनिर्माण (एचवीएम) लाइनों में एक निर्बाध संक्रमण प्रदान करता है।

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