सिलिकॉन डिस्क

सिलिकॉन डिस्क

इस सटीक सिलिकॉन डिस्क श्रृंखला को सावधानीपूर्वक इंजीनियर किया गया हैसटीक प्रसंस्करण के लिए विश्वसनीय प्रदर्शन प्रदान करें, उन्नत डिवाइस एकीकरण के लिए उच्च {{0}शुद्धता वाले आधार के रूप में कार्य करना। से पूर्ण औद्योगिक स्पेक्ट्रम का समर्थन करना2 इंच (50 मिमी) से 12 इंच (300 मिमी)आधुनिक सेमीकंडक्टर निर्माण के कठोर तनाव प्रोफाइल के तहत पूर्ण भौतिक और रासायनिक स्थिरता बनाए रखने के लिए, इन डिस्क को मालिकाना क्रिस्टल ग्रोथ और एज प्रोफाइलिंग प्रौद्योगिकियों का उपयोग करके तैयार किया गया है।

डाउनस्ट्रीम निर्माण स्थिरता:एकसमान संरचना-सख्ती से नियंत्रित रेडियल प्रतिरोधकता और ऑक्सीजन सांद्रता की विशेषता-स्थिर डाउनस्ट्रीम निर्माण सुनिश्चित करता है. यह समरूपता नक़्क़ाशी दर और जमाव एकरूपता में भिन्नता को कम करती है, उच्च -घनत्व के लिए एक पूर्वानुमानित प्रक्रिया विंडो प्रदान करती हैएनालॉग आईसी और पावर प्रबंधनआर्किटेक्चर.

निर्बाध उपकरण संगतता:घर्षण रहित एकीकरण के लिए इंजीनियर की गई डिस्कमानक अर्धचालक उपकरण के साथ संगत है, नॉच/फ्लैट आयामों और पीछे की तरफ की आकृति विज्ञान के लिए अंतर्राष्ट्रीय SEMI मानकों का सख्ती से पालन करना। यह अनुकूलता उच्च गति रोबोटिक हैंडलिंग और स्वचालित वैक्यूम चकिंग सिस्टम में विश्वसनीय प्रदर्शन सुनिश्चित करती है, जिससे डाउनटाइम और रिकैलिब्रेशन की आवश्यकता कम हो जाती है।

उच्च-वॉल्यूम स्केलिंग में आयामी सटीकता:डिस्कउत्कृष्ट आयामी सटीकता बनाए रखता है, जिसमें सब-{0}}माइक्रोन टोटल थिकनेस वेरिएशन (टीटीवी) और अल्ट्रा-{1}लो वार्प/बो शामिल है। यह ज्यामितीय अखंडताउच्च मात्रा में उत्पादन वातावरण का समर्थन करता है(एचवीएम) फ़ोकस (डीओएफ) की लगातार लिथोग्राफ़िक गहराई (डीओएफ) को सुनिश्चित करके, जो कि उप-{3}माइक्रोन सुविधाओं और उच्च-आस्पेक्ट (4-पहलू) 55 अनुपात संरचनाओं की त्रुटि मुक्त स्केलिंग के लिए आवश्यक है।

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