सिलिकॉन गोल वेफर

सिलिकॉन गोल वेफर

इस सिलिकॉन राउंड वेफर श्रृंखला को समझौता न करने वाला अनुभव प्रदान करने के लिए सावधानीपूर्वक इंजीनियर किया गया हैस्थिर ज्यामितिसीमलेस के लिए आवश्यक हैस्वचालित हैंडलिंगउन्नत फाउंड्री वातावरण में। से पूर्ण व्यास स्पेक्ट्रम के लिए अनुकूलित2 इंच (50 मिमी) से 12 इंच (300 मिमी), इन सबस्ट्रेट्स को उच्च {{0}स्पीड रोबोटिक ट्रांसफर और वैक्यूम चकिंग अनुक्रमों के दौरान लगातार यांत्रिक जुड़ाव सुनिश्चित करने के लिए उच्च-निष्ठा एज प्रोफाइलिंग के साथ तैयार किया गया है।

परिशुद्धता-संचालित उपकरण संगतता:प्रत्येक वेफर कठोर सहनशीलता द्वारा शासित होता हैसटीक गोलाईऔर व्यास स्थिरता, पुराने 200 मिमी उपकरण और उन्नत 300 मिमी स्वचालित क्लस्टर दोनों के साथ संगतता में उल्लेखनीय सुधार। पायदान और सपाट आयामों के लिए अंतरराष्ट्रीय एसईएमआई मानकों का सख्ती से पालन करके, सब्सट्रेट लगभग तात्कालिक उपकरण अंशांकन की अनुमति देता है, जिससे यांत्रिक डाउनटाइम कम हो जाता है।

सुव्यवस्थित प्रसंस्करण प्रवाह:वेफर की बेहतर आयामी स्थिरता का समर्थन करता हैसुचारू प्रसंस्करण प्रवाहनिर्माण के सबसे गहन चरणों के माध्यम से। द्रव्यमान विलक्षणता के केंद्र को न्यूनतम करके, सब्सट्रेट उच्च {{3}आरपीएम स्पिन कोटिंग और रासायनिक प्लानेराइजेशन (सीएमपी) के दौरान घूर्णी कंपन को कम करता है, जिससे पूरी सतह पर एक समान फिल्म की मोटाई सुनिश्चित होती है।

न्यूनतम संरेखण व्यवधान: सुसंगत आयामस्थानिकता को कम करने के लिए महत्वपूर्ण हैंसंरेखण मुद्देमल्टी-लेयर फोटोलिथोग्राफी के दौरान। वेफर का स्थिर रूप कारक यह सुनिश्चित करता है कि वैश्विक संरेखण चिह्न उन्नत स्कैनर की कैप्चर रेंज के भीतर बने रहें, जो सीधे तौर पर उत्थान से संबंधित है।वेफ़र-स्तर की उपज (WLY)उच्च-घनत्व के लिएपावर आईसी और तर्कबड़े पैमाने पर उपकरणऔद्योगिक उत्पादन लाइनें.

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