सिलिकॉन वेफर कोर

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हमारे सिलिकॉन वेफर समाधान उन्नत का उपयोग करके परमाणु स्तर से तैयार किए गए हैंज़ोक्राल्स्की (सीजेड)औरफ्लोट जोन (FZ)अति शुद्ध, दोष मुक्त जाली संरचना सुनिश्चित करने के लिए क्रिस्टल विकास पद्धतियाँ। से संपूर्ण औद्योगिक स्पेक्ट्रम का समर्थन करना2 इंच (50 मिमी) से 12 इंच (300 मिमी), ये सबस्ट्रेट्स जटिल एपिटैक्सियल विकास और उच्च {{1}खुराक आयन आरोपण के लिए एक उच्च {{0}अखंडता मेजबान के रूप में काम करते हैं।

हम अंतरालीय ऑक्सीजन और कार्बन सामग्री के लिए एक आक्रामक सीमा बनाए रखते हैं, जो थर्मल स्थिरता सुनिश्चित करने और सबसे अस्थिर उच्च वैक्यूम एनीलिंग चक्रों के दौरान वर्षा को रोकने के लिए महत्वपूर्ण है। अनुकूलन करकेवैश्विक और साइट-विशिष्ट समतलता (टीटीवी और एसएफक्यूआर), हमारे वेफर्स उन्नत उप-{2}}माइक्रोन फोटोलिथोग्राफी में फोकस (डीओएफ) की एक विस्तारित गहराई की सुविधा प्रदान करते हैं, जो सीधे आपके अंतिम डिवाइस की उपज में एक महत्वपूर्ण उत्थान से संबंधित है।

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