सिलिकॉन वेफर डिस्क

सिलिकॉन वेफर डिस्क

हमारे प्रीमियम सेमीकंडक्टर सिलिकॉन डिस्क को सबसे अधिक मांग वाले उच्च मात्रा वाले उत्पादन वातावरण के लिए असाधारण आयामी स्थिरता प्रदान करने के लिए इंजीनियर किया गया है। संपूर्ण के लिए अनुकूलित50 मिमी से 300 मिमी (2-12 इंच)स्पेक्ट्रम निर्माण के लिए, ये सबस्ट्रेट्स अगली पीढ़ी के इलेक्ट्रॉनिक घटकों के लिए एक उच्च {{0}अखंडता मंच के रूप में कार्य करते हैं।

प्रमुख तकनीकी लाभ:

ज्यामितीय परिशुद्धता:सटीक और दोहराने योग्य परिणामों के लिए डिज़ाइन की गई, हमारी डिस्क में सख्ती से नियंत्रित टोटल थिकनेस वेरिएशन (टीटीवी) और वार्प की सुविधा है, जो स्वचालित हैंडलिंग और उच्च रिज़ॉल्यूशन लिथोग्राफी के लिए एकदम फिट सुनिश्चित करती है।

थर्मल लचीलापन:थर्मल ऑक्सीकरण, प्रसार और रैपिड थर्मल एनीलिंग (आरटीए) जैसी उच्च तापमान प्रक्रियाओं के तहत संरचनात्मक अखंडता और जाली पूर्णता बनाए रखने के लिए इंजीनियर किया गया।

सुसंगत सामग्री प्रोफ़ाइल:अल्ट्रा{0}}समान क्रिस्टल संरचना प्रत्येक बैच में स्थिर विद्युत और यांत्रिक प्रदर्शन सुनिश्चित करती है, जटिल उपकरण निर्माण में प्रक्रिया बहाव को कम करती है।

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