सिलिकॉन वेफर माध्यम

सिलिकॉन वेफर माध्यम

इस उच्च -शुद्धता वाले सिलिकॉन माध्यम को सबसे उन्नत माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक आर्किटेक्चर के लिए एक विश्वसनीय प्रसंस्करण आधार के रूप में कार्य करने के लिए डिज़ाइन किया गया है। संपूर्ण रूप से अनुकूलित2 इंच (50 मिमी) से 12 इंच (300 मिमी)व्यास स्पेक्ट्रम, ये सब्सट्रेट अत्यधिक नियंत्रित विनिर्माण वातावरण के भीतर जटिल, बहु-स्तरीय डिवाइस एकीकरण के लिए आवश्यक थर्मोमैकेनिकल स्थिरता प्रदान करते हैं।

मुख्य तकनीकी लाभ:

संतुलित गतिक गुण:माध्यम में सावधानीपूर्वक संतुलित सामग्री संरचना होती है जो थर्मल और विद्युत स्थिरता को बढ़ाती है। पर कड़ा नियंत्रण रखकररेडियल ऑक्सीजन सांद्रता और जाली पूर्णता, यह उच्च -ऊर्जा आयन आरोपण और अस्थिर थर्मल प्रसार चक्र के दौरान लगातार व्यवहार सुनिश्चित करता है।

सभी बैचों में चरण स्थिरता:उच्च मात्रा में विनिर्माण के लिए इंजीनियर किया गया यह माध्यम प्रत्येक उत्पादन स्थल पर असाधारण स्थिरता के साथ कार्य करता है। यह अंतर-{2}}बैच स्थिरता प्रक्रिया बहाव को कम करती है और सख्त नियंत्रण की अनुमति देती हैथ्रेशोल्ड वोल्टेज (Vth) और वाहक गतिशीलतापावर आईसी और आरएफ अनुप्रयोगों में।

परिशुद्धता-उन्मुखी ज्यामितीय अखंडता:सबसे अधिक मांग वाले सटीक अनुप्रयोगों के लिए डिज़ाइन किया गया, माध्यम अत्यधिक सपाटता (टीटीवी) और कम ताना का समर्थन करता है। यह ज्यामितीय अखंडता उच्च-रिज़ॉल्यूशन फोटोलिथोग्राफ़िक संरेखण की सुविधा प्रदान करती है, जो सीधे तौर पर उत्थान से संबंधित हैवेफ़र-स्तर की उपज और डिवाइस की विश्वसनीयता.

लोकप्रिय टैग: सिलिकॉन वेफर मीडियम, चीन सिलिकॉन वेफर मीडियम निर्माता, आपूर्तिकर्ता, कारखाने